薄膜ゲッター
特徴と用途 この製品は、最適化された微細構造を備えたチタンまたはジルコニウム合金の薄膜であり、広い温度範囲で活性化できます。活性化後、水素、水蒸気、一酸化炭素、二酸化炭素、その他の不純物ガスを吸収します。
説明
サイン
特長と用途
この製品は、広い温度範囲で活性化できる最適化された微細構造を備えたチタンまたはジルコニウム合金の薄膜です。活性化後は、真空環境中の水素、水蒸気、一酸化炭素、二酸化炭素などの不活性ガス以外の不純物ガスを吸収し、装置内の真空度を向上・維持します。吸入能力が大きく、粒子がなく、作動温度が低いという特徴があります。非冷却赤外線センサーやマイクロジャイロスコープなど、各種MEMSデバイスに幅広くご使用いただけます。異なるカプセル化プロセスには、異なるゲッター合金が利用可能です。
基本特性と一般データ
構造
製品の代表的な構造は、厚さ50ミクロンのステンレス鋼を担体とし、その表面を膜厚約1.5ミクロンで両面コーティングしたものです。ユーザーのニーズに応じてサイズ形状をカスタマイズできます。また、ウェーハやさまざまな金属カバー プレートやセラミック シェルの表面に薄膜の形で堆積することもできます。
吸着能力
1E-3Pa以下の動的高真空中で活性化させた後、吸着能力を持ち、室温まで冷却しても各種活性ガスを吸着する能力を持ちます。活性化温度が上昇するにつれて、吸気能力は徐々に増加します。製品を最適活性温度で30分間加熱し、冷却後のCO吸着能力は0.06Pa・L/cm2を超えました。活性温度が最適活性温度を超えると、冷却後の1回の吸入性能が減衰します。
低真空中で加熱して製品を活性化すると、加熱プロセス中に環境中の活性ガスが吸収され始めます。ガスが異なれば、その吸収速度と吸収能力も異なります。特定の温度および総吸収能力の範囲内では、初期の吸収速度は速くなりますが、その後は徐々に遅くなります。温度が再び上昇すると、吸収率は再び増加し、その後再び減衰します。冷却後の製品に吸引能力が残るかどうかは、吸収する活性ガスの種類と吸入量によって異なります。
推奨発動条件
最高のパフォーマンスを得るには、1E-3Pa 未満の動的高真空中での活性化が推奨されます。各フィルム材料の推奨活性化条件を次のリストに示します。
| フィルム素材 | 温度と時間(℃×分) |
| TP | 450×30 |
| TZC | 300×30 |
| TZCF | 400×30 |
注意
製品仕様に記載されている加熱電流対活性化温度曲線は、真空中に吊るされた製品によってテストされており、実際の活性化電流対温度は主に製品がデバイス内にはんだ付けされた後の熱損失に依存します。溶接位置の熱伝導により、溶接部分の温度は製品中央部の温度に比べて大幅に低くなります。
活性化中に、ゲッターは内部で固溶性の水素を放出します。環境中に水があれば、水中の酸素がゲッターにより固定され、単体の水素が水素ガスに変換されて放出されます。密閉空間では、冷却後、水素のこの部分がゲッターに完全に吸収されるかどうかは、活性化中に吸収されるガスの種類と量によって異なります。
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